Avec cet événement, la BIDC veut surtout replacer le secteur privé au cœur des investissements dans la sous-région, actuellement en plein redressement économique.

“Transformer les Communautés de la CEDEAO dans un environnement difficile”, c’est le thème central du premier Forum d’Investissement de la CEDEAO (EIF) qui se tiendra les 4 et 5 avril prochains à Lomé, sur initiative de la Banque d’Investissement et de Développement de la CEDEAO (BIDC). Les échanges permettront de lever le voile sur les opportunités d’investissement dans les secteurs clés des États membres.

L’objectif étant de présenter les perspectives d’investissement et d’encourager une participation active du secteur privé comme moteur de développement économique, notamment dans un contexte marqué par diverses crises, qu’elles soient sécuritaires, politiques ou économiques.

Autour de cette thématique, plus de 400 acteurs clés, incluant partenaires de développement, leaders des secteurs privé et public, investisseurs internationaux, ainsi que des représentants de la société civile, sont attendus. Parmi les participants notables figurent Dr Ngozi Okonjo-Iweala de l’OMC, Simon Tiemtoré du Groupe Vista Bank, Kanayo Awani d’Afreximbank, ou Dr Omar Alieu Touray de la Commission de la CEDEAO.

Avec ce rendez-vous, dont cette première édition est organisée avec le soutien d’Eximbank India, la BIDC entend amener les acteurs à explorer le potentiel d’investissement en Afrique de l’Ouest, avec un accent particulier sur la reprise socio-économique, à l’heure où la sous-région est confrontée à de multiples défis, notamment des crises sécuritaire, politique et économique dans d’autres pays.

Au programme, des discussions autour de thématiques vitales pour le développement de la sous-région telles que la sécurité alimentaire, le déficit en infrastructure, l’énergie et la santé.

Selon les organisateurs, outre les panels de discussion, l’EIF 2024 sera marqué également par des ateliers, des sessions interactives, des rencontres B2B et des opportunités de réseautage.